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Substance Designer 2017.1发布

SUBSTANCE DESIGNER:

烘焙工具更新倾斜纠正!
Substance Designer首次无数字版本号发布,烘焙工具进行了深度改造,这只是为使烘焙在后续版本中,更快速高效的第一步。其他更新包括Graph图表更新,HBAO滤镜和Autolevel自动色阶节点。

下载链接

https://www.allegorithmic.com/buy/download

  • 烘焙改装: 第一阶段

UI已重新设计,以便于减小屏幕空间,在精简的布局中显示相同数量信息。我们将可以添加新的有趣组件到烘焙的界面。
速度得到了解决,高模只需拾取一次并保存在内存中,直到烘焙关闭。现在可以和Substance Designer的界面UI进行交互,在2D/3D视图检查烘焙结果并保持视窗在打开状态。
烘焙时间大大缩短。
最后,新的倾斜纠正添加到了所有的raytraced光线追踪烘焙。这将提供一个黑白蒙版来控制烘焙并避免硬表面产生变形。

  • GRAPH图表改进

父级工具栏的尺寸现在直接保存在graph图表中。现在可以从任何角落和边框调整graph图表的大小。

图表的缩略图生成时间得到改进,专用的缓存量现在可以在Preferences选项中自定义。

最后,graph图表inputs可以单独或批量复制粘贴,保留其所有属性从一个graph图表复制到更外图表。

  • HBAO 改进

hbao滤镜更新,现在可以选择多个级别的质量,并且半径控制更加自然。该滤镜现在还可以采用13f/32f图像输入。

  • PBR 转换器更新

新的渲染器预设已添加到转换器中,现在可以将BaseColor, Metallic 和 Roughness 通道转换为新的shader:Renderman (PxrSurface), Corona 1.6, Arnold 4 (AlSurface) and Arnold 5 ((AiStandard).

  • 自动色阶升级

Autolevel自动色阶速度升级了一点,现在提供了更好的质量(质量参数已删除),并且支持16f/32f 值:它可以重新映射任何HDR以适应[0, 1]区间。
有关更多新内容和修改的完整列表,请转到发行说明release note。

https://www.allegorithmic.com/products/substance-designer/release-note

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